武漢工業氣體大家有沒有了解，通過往期小編的介紹，想必大家多少都有一些了解吧，今天武漢工業氣體廠家武漢舒星氧氣有限公司的小編分享給大家高純氣體的重要標準度。
一、高純氣體的重要標度。

通常，高純氣體系指氣體中含較少雜質氣氛(純度)，微量水份(干燥度)污染物粒子的婁量保持在最低限度，其粒度也應是最小的(潔凈度)。因此，對于高純氣體，純度、干燥度、潔凈是三項重要的標度。

特別是近10年來，隨著更復雜、更密集的大規模和超大規模集成電路的生產，對高純氣體潔凈度的要求，其重要程度已不亞于對純度和干燥度有嚴格要求的用氣工藝，無一不對其中的粒子提出限制。

二、控制粒子污染的重要性

對于控制粒子污染的重要性，在集成電路生產、實驗部門已經有所認識，同時，實踐已向人們表明，氣體的粒子可造成微日子產品的短路或斷路，改變半導體材料的電性能，也可以破壞其晶格結構，影響印刷板的復制等等。這些破壞性因素中的任何一個，無可導致集成電路失效的嚴重后果。通常，粒子的粒徑小到1微米的十分之幾，便可造成斷路，而更小的鑿子，便函可使線路工作降級。所以，防止粒子污染，在微電子技術中是十分嚴格的。迄今，在純凈氣體應用技術中，對于大流量高純氣體輸送系統，美國已有輸送含0。1μm以上粒子，每立方英尺氣體中不超過10個的能力;它還為幾個系統輸送含有0.02μm以上粒子的氣體，其粒子數每立方英尺不超過10個。

三、潔凈度控制的標準或規定

由于高純度體的使用地點、性質、關況(如溫度、壓力等)都不完全一致，所以，如何確定高純氣體的“三度”(純度、干燥度、潔凈度)，還沒有一個嚴格而明確的概念。

對于純度和干燥度的控制，我國CBJ73—84《潔凈廠房設計規范》中指出，“高純氣體系指純度大于或等于99.9995%，含水量小于5ppm氣體。

日本把微電子生產中所采用的氣體，按其不同的品位，具體分為下列幾個不同的檔次。

超高純氣體

氣體中雜質總含量控制在1ppm以下，水份含量控制在0.2~1ppm。

高純氣體

氣體中雜質總含量控制在5%ppm以下，水份含量控制在3 ppm以內.

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